Mütze

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Design: Gerader Saum, Umgeschlagener Saum; Material: Strick; Muster: Logoprint; Mützenart: Beanie; Extras: Label Patch/Label Flag, Ton-in-Ton-Nähte

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Hersteller:Calvin Klein
Material:Material:Polyamid=41%,Polyacryl=29%,Wolle=27%,Elasthan=2%,Andere Fasern=1%
Farbe:Weiß