Plasma and Low- Dielectric Materials, Fachbücher von Junjing Bao

Das Buch "Plasma and Low-Dielectric Materials" von Junjing Bao bietet eine umfassende Untersuchung der Wechselwirkungen zwischen Plasma und nieder dielektrischen Materialien, die in fortschrittlichen Halbleiterprozessen von entscheidender Bedeutung sind. Angesichts der Miniaturisierung von Geräten wird die Integration von porösen ultra-low-k Materialien in Kupferverbindungen immer wichtiger. Das Buch gliedert sich in zwei Hauptteile: Der erste Teil behandelt, wie Plasma die atomare Schichtabscheidung von Ta-basierten Kupferbarrieren unterstützt, während der zweite Teil die schädlichen Auswirkungen von Plasma auf die Eigenschaften von nieder dielektrischen Materialien analysiert. Durch Experimente und Monte-Carlo-Simulationen wird aufgezeigt, wie Plasma die Oberflächen von low-k Materialien verändert und günstige Oberflächenfunktionalitäten für nachfolgende Abscheidungsprozesse erzeugt. Zudem werden Techniken zur Reparatur von low-k Materialien vorgestellt, um die durch Plasma verursachten Schäden zu beheben.