Polysulfones As X-Ray Resists, Fachbücher von Gina Calderon Wilkinson

"Polysulfones as X-Ray Resists" ist ein Fachbuch, das sich mit der Anwendung von Poly(olefin sulfones) als Röntgenstrahl-Resisten in der Mikrolithografie beschäftigt. Die Mikrolithografie ist ein entscheidender Prozess in der Herstellung von Mikrosystemen, bei dem hochenergetische Strahlung verwendet wird, um Muster auf dünne Schichten von Polymerresisten zu übertragen. Dieses Buch untersucht die Empfindlichkeit von Polysulfonen gegenüber Röntgenstrahlen und analysiert die Mechanismen der Degradation, die durch Röntgenstrahlung hervorgerufen werden. Durch den Einsatz von Röntgenabsorptionsnahkante-Struktur (XANES) Spektroskopie und in-situ Massenspektrometrie werden die Unterschiede in der Zersetzung bestimmter Poly(olefin sulfones) detailliert dargestellt. Die Ergebnisse dieser Studie bieten eine wertvolle Grundlage für zukünftige Forschungen zu Polysulfonen als Röntgenstrahl-Resisten und deren potenziellen Anwendungen in der Mikrolithografie.