Resist, Fachbücher von Lambert M. Surhone, Miriam T. Timpledon, Susan F. Marseken
34,00 €
Variante
Das Buch "Resist" von Betascript Publishing bietet eine umfassende Analyse des Begriffs "Resist" im Kontext der Halbleiterfertigung. Es behandelt die beiden Hauptaspekte des Resists: die dünne Schicht, die zur Übertragung von Schaltmustern auf das Halbleitersubstrat verwendet wird, sowie das Material, das zur Herstellung dieser Schicht eingesetzt wird. Das Buch erklärt, wie Resists durch Lithografie geformt werden, um temporäre Masken zu schaffen, die bestimmte Bereiche des Substrats während der nachfolgenden Verarbeitungsschritte schützen. Zudem wird auf die speziellen Formulierungen von Resists eingegangen, die für verschiedene Lithografietechnologien entwickelt wurden, einschliesslich der Verwendung von Photoresists in der Photolithografie. Diese detaillierte Betrachtung macht das Buch zu einer wertvollen Ressource für Fachleute und Studierende im Bereich der Halbleitertechnologie.
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