DUV-resist stripping with ozonated water in semiconductor industry, Fachbücher von Mathias Guder

Das Buch "DUV-resist stripping with ozonated water in semiconductor industry" von Mathias Guder behandelt die Herausforderungen der Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie, insbesondere im Hinblick auf die schonende und rückstandsfreie Entfernung von Photoresisten. Angesichts der aktuellen Strukturgrössen von 32 nm und der Verwendung neuer Materialien für Hoch- und Niedrig-k Dielektrika stösst das herkömmliche Verfahren, das Plasmaätzen und chemische Nassreinigung kombiniert, an seine Grenzen. Das Buch untersucht alternative, nicht-destruktive Reinigungsmethoden, die auf ozoniertem Wasser basieren und sich als kosteneffizient und umweltfreundlich erwiesen haben. Es wird erläutert, wie diese Chemie an die derzeit verwendeten DUV-Resisten angepasst werden kann, um die während der Implantationsschritte entstehenden Rückstände zu entfernen. Ziel ist es, ein umfassendes Verständnis der beteiligten Parameter zu erlangen, um individuelle Lösungen für verschiedene Resisten und Prozessschritte zu entwickeln.