Principles of Chemical Vapor Deposition, Fachbücher von M.K. Zuraw, D.M. Dobkin
235,39 €
Das Buch "Principles of Chemical Vapor Deposition" bietet eine umfassende Einführung in die Grundlagen der chemischen Dampfabscheidung (CVD). Es behandelt zentrale Themen wie Wärme- und Stoffübertragung, Oberflächen- und Gasphasenchemie sowie die Eigenschaften von Plasmaströmen. Durch die Diskussion praktischer Filme und Reaktoren wird der Leser in die Lage versetzt, bessere Prozesse und Ausrüstungen zu entwickeln. Das Werk richtet sich insbesondere an Personen, die neu im Bereich der CVD sind, und hilft ihnen, die Funktionsweise von CVD-Reaktoren und -Prozessen zu verstehen. Es wird Wert darauf gelegt, komplexe mathematische Konzepte zu vermeiden und stattdessen die wesentlichen physikalischen und chemischen Prinzipien klar und verständlich zu präsentieren. Zahlreiche Illustrationen unterstützen das Verständnis und helfen, die theoretischen Konzepte in praktische Anwendungen zu übertragen.
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