Electrical and Mechanical Properties of Mesoporous Silica Thin Films, Fachbücher von Amit Pratap Singh
59,00 €
Das Fachbuch "Electrical and Mechanical Properties of Mesoporous Silica Thin Films" bietet eine umfassende Analyse der Eigenschaften von mesoporösem Siliziumdioxid (MPS) in dünnen Schichten, die für Anwendungen als niederohmige Interlayer-Dielektrika (ILD) in integrierten Schaltungen von Bedeutung sind. Es wird auf die Herausforderungen eingegangen, die mit der elektrischen Stabilität dieser Filme verbunden sind, insbesondere in Bezug auf Wasseraufnahme und Kupferdiffusion. Das Werk untersucht die chemischen und thermischen Instabilitäten sowie die Haftung dieser Materialien, um deren Eignung für zukünftige Anwendungen in der Geräteverkabelung zu bewerten. Ein weiterer Schwerpunkt liegt auf der thermischen Stabilität funktioneller Gruppen und der Haftung der Filme mit Kupfer, die entscheidend für die Integration dieser Dielektrika in reale Geräte sind. Die Studie behandelt auch die Bedeutung der Porenstruktur für die mechanischen und elektrischen Eigenschaften der MPS-Filme, wobei insbesondere 3D-cubische Porenstrukturen betrachtet werden.
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