Theoretical Study in Doping Process: Ion Implantation and Diffusion, Fachbücher von Shaker I. Easa, Jenan M. Al-Mukh, Fa...

Das Buch "Theoretical Study in Doping Process: Ion Implantation and Diffusion" bietet eine umfassende Analyse der Prozesse der Ionenimplantation und Diffusion, die während der Bestrahlung auftreten. Die Autoren, Fatima Al-Saeed, Shaker I. Easa und Jenan M. Al-Mukh, betrachten den gesamten Prozess als einen zweistufigen Vorgang. In der ersten Phase wird die Implantation behandelt, wobei die Bewegungsgleichung für die Ionenimplantation als modifizierte Form des Fick'schen Gesetzes formuliert wird. Die zweite Phase befasst sich mit der Umverteilung der Ionen durch Diffusion, wobei die Erhaltung der Gesamtanzahl der Verunreinigungen berücksichtigt wird. Das Buch bietet auch eine eingehende Untersuchung der Diffusion in mehrschichtigen Strukturen und behandelt wichtige Effekte im Zusammenhang mit Heterostrukturen. Die theoretische Behandlung wird durch die Betrachtung der konstanten Oberflächenkonzentration und der abdeckungsabhängigen Diffusion ergänzt, was zu einem tieferen Verständnis der zugrunde liegenden physikalischen Prozesse führt.