Plasmonic Nanolithography, Fachbücher von Xiang Zhang, Werayut Srituravanich

Das Fachbuch "Plasmonic Nanolithography" bietet eine umfassende Analyse der nächsten Generation der Nano-Fertigungstechnologien, die die Anforderungen an Kosten, Auflösung und Durchsatz für die Herstellung einer Vielzahl von nanoskaligen Geräten erfüllen können. Es beleuchtet die Herausforderungen, die mit der herkömmlichen Photolithographie verbunden sind, insbesondere die Auflösungsgrenze, die als Beugungsgrenze bekannt ist. Das Buch diskutiert die Verwendung von Oberflächenplasmonen, die das Potenzial haben, Licht auf nanometrischer Ebene zu manipulieren, und stellt innovative Nanolithographietechniken vor, die eine hochauflösende Musterung jenseits der Beugungsgrenze ermöglichen. Diese Techniken nutzen konventionelle Lichtquellen und eröffnen somit vielversprechende Perspektiven für die zukünftige Nano-Fertigung.