Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application, Fachbücher von Harish Bhandari
49,00 €
Das Buch "Hafnium Oxide And Hafnium Silicate For High-k Application" bietet eine umfassende Einführung in die Grundlagen der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) von Hafniumoxid und Hafniumsilikat-Dünnfilmen, die für Anwendungen mit hohem Dielektrizitätskonstanten (high-k) von Bedeutung sind. Es beleuchtet die Prinzipien, die diesen innovativen Materialien zugrunde liegen, und bietet wertvolle Einblicke in verschiedene chemische und physikalische Charakterisierungstechniken, die auf Dünnfilme anwendbar sind. Die klare und anschauliche Darstellung macht das Buch sowohl für Einsteiger als auch für fortgeschrittene Forscher zugänglich, die sich mit dem Thema der high-k Dünnfilme vertraut machen möchten. Die Kombination aus theoretischem Wissen und praktischen Anwendungen macht dieses Werk zu einer wertvollen Ressource für alle, die sich mit der Entwicklung zukünftiger MOS-Transistoren beschäftigen.
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