Reactive-ion Etching, Fachbücher von Lambert M. Surhone, Mariam T. Tennoe, Susan F. Henssonow
Das Buch "Reactive-ion Etching" bietet eine umfassende Einführung in die Technologie des reaktiven Ionenätzens (RIE), die in ... Mehr erfahren
Produktvarianten
Reactive-ion Etching, Fachbücher von Lambert M. Surhone, Mariam T. Tennoe, Susan F. Henssonow
Finde die besten Angebote
Bester Preis17 Punkte
Galaxus
Versandkostenfrei
Lieferzeit: 2-4 Werktage
Versandkostenfrei | Lieferzeit: 2-4 Werktage
Ähnliche Produkte
Produktdetails
Das Buch "Reactive-ion Etching" bietet eine umfassende Einführung in die Technologie des reaktiven Ionenätzens (RIE), die in der Mikrofabrikation weit verbreitet ist. Es erklärt die Funktionsweise dieser Ätztechnik, bei der chemisch reaktive Plasmen verwendet werden, um Material von Wafern zu entfernen. Die Erzeugung des Plasmas erfolgt unter Vakuumbedingungen durch ein elektromagnetisches Feld, wobei hochenergetische Ionen die Oberfläche des Wafers angreifen und mit ihr reagieren. Das Buch beschreibt die typischen Komponenten eines RIE-Systems, einschliesslich der Struktur der Vakuumkammer und der Gaszufuhr, sowie die Variabilität der verwendeten Gase, die je nach Ätzprozess unterschiedlich sind. Diese detaillierte Darstellung macht das Buch zu einer wertvollen Ressource für Fachleute und Studierende, die sich mit der Mikrofabrikation und den damit verbundenen Technologien beschäftigen.
Informationen
Lieferzeit:2-4 Werktage
Marke:Betascript Publishing