Flux Profile Modeling using Monte Carlo Simulation, Fachbücher von Rama Venkat, Ramprasad Vijayagopal

Das Buch "Flux Profile Modeling using Monte Carlo Simulation" bietet eine umfassende Analyse des Prozesses der Molekularstrahlepitaxie (MBE), bei dem Halbleiterfilme durch physikalische Dampfabscheidung in einer ultrahochvakuumierten Umgebung auf einem Substrat gewachsen werden. Es wird ein Prozesssimulationswerkzeug vorgestellt, das auf einem phänomenologischen Modell basiert und die räumlichen Variationen des Flusses berücksichtigt, die durch die Form des Tiegels und die Geometrie der Wachstumsumgebung entstehen. Dieses Werkzeug ist für die Industrie von Bedeutung, da es die Effusion und Ablagerung von Molekularstrahlen simulieren kann, indem es verschiedene Parameter berücksichtigt, die den Prozess beeinflussen. Darüber hinaus ermöglicht es die Generierung von Ablagerungsprofilen, die durch die effusierenden Flussarten auf der Trägerschicht, die die Wafer enthält, entstehen.