Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers, Fachbücher von Takeshi Hattori

Das Buch "Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers" bietet einen umfassenden Einblick in innovative Konzepte zur Reinigung von Siliziumwafer-Oberflächen. Verfasst von über fünfzig renommierten Forschenden und Ingenieuren führender japanischer Halbleiterunternehmen, wie NEC, Hitachi, Toshiba, Sony und Panasonic, wird hier erstmals das Wissen und die Techniken dieser hochproduktiven Institutionen offengelegt. Die Autoren erläutern die notwendigen Verfahren und Geräte zur Vorbereitung sauberer, hochwertiger Halbleiteroberflächen, die als grundlegender Schritt für die Herstellung von zuverlässigen nanoskaligen Geräten dienen. Dieses Fachbuch ist eine wertvolle Ressource für Ingenieure, Physiker und Techniker, die in der Produktion von Silizium-Halbleitergeräten tätig sind. Es wird besonders betont, dass die Kontrolle der Kontamination an der Waferoberfläche selbst beginnen muss, um die Erträge in der VLSI-Gerätefertigung zu optimieren.