Plasma Ashing, Fachbücher

Das Buch "Plasma Ashing" von Betascript Publishing bietet eine umfassende Einführung in den Prozess des Plasma-Ashings, der in der Halbleiterfertigung eine entscheidende Rolle spielt. Plasma-Ashing ist ein Verfahren zur Entfernung von Photoresist von geätzten Wafern, das durch die Erzeugung reaktiver monatomarer Spezies, wie Sauerstoff oder Fluor, erfolgt. Diese Spezies reagieren mit dem Photoresist und bilden Asche, die anschliessend durch eine Vakuumpumpe entfernt wird. Das Buch erläutert die technischen Grundlagen und die Bedeutung des Verfahrens, insbesondere im Hinblick auf die Herausforderungen, die mit der Miniaturisierung von Schaltungen und der Empfindlichkeit neuerer Technologien gegenüber freien Radikalen verbunden sind. Es richtet sich an Fachleute und Studierende, die ein vertieftes Verständnis für die Prozesse in der Halbleiterindustrie entwickeln möchten.